الوصف
رقاقة COS 450 نانومتر 5 وات على صمام ثنائي ليزر فرعي
سمات:
- شريحة ليزر زرقاء-عالية السطوع عند 450 نانومتر
- تقلبات منخفضة في الطاقة، وعرض خط طيفي ضيق
- تصميم فرعي قوي مع مقاومة حرارية محسنة
التطبيقات:
- -النقش والنقش بالألوان بالليزر عالي الدقة: يستخدم على نطاق واسع لوضع علامات الألوان على الفولاذ المقاوم للصدأ والنحاس والألمنيوم المؤكسد، بالإضافة إلى النقش الدقيق على البلاستيك والمواد المطلية.
- المعالجة بالليزر الصناعي والقطع الدقيق-: يتم تطبيقه في القطع الدقيق والحفر والمعالجة السطحية للمعادن الرقيقة وركائز ثنائي الفينيل متعدد الكلور ومواد البوليمر.
- الطباعة ثلاثية الأبعاد ومعالجة البوليميرات الضوئية تُستخدم في -طابعات DLP/SLA ثلاثية الأبعاد وأنظمة المعالجة بالأشعة فوق البنفسجية عالية السرعة.
يجمع الصمام الثنائي الليزري COS 450 نانومتر 5 وات بين مخرجات الضوء الأزرق عالية الطاقة والأداء الحراري الممتاز في تصميم Chip On Submount المصغر. يتم تطبيقه على نطاق واسع في وضع العلامات بالليزر، والمعالجة الدقيقة، والطباعة ثلاثية الأبعاد، وإضاءة العرض، والتحليل الطبي الحيوي. مع الاستقرار الموثوق به والتكامل السهل، فإنه يوفر مصدر ضوء أزرق فعال ومتين للأنظمة البصرية الصناعية والعلمية.
ورقة البيانات
رقم الصنف: COS450DL5
| بصري | |
| مركز الطول الموجي | 450 نانومتر |
| التسامح مع الطول الموجي | ± 10 نانومتر |
| طاقة الإخراج | 5W |
| حجم الباعث | 45 * 1 مم |
| المحور السريع FWHM | 50 درجة |
| المحور البطيء FWHM | 10 درجة |
| كهربائي | |
| التشغيل الحالي Iop | 3A |
| العتبة الحالية إيث | 0.5A |
| جهد التشغيل VOP | 4.5V |
| الحرارية | |
| درجة حرارة الاختبار | 15 ~ 30 درجة |
| درجة حرارة التخزين | -40 ~ 85 درجة |
رسم:
الوسم : 450nm 5w cos chip على الموردين صمام ثنائي ليزر فرعي، الشركات المصنعة في الصين، مصنع، بالجملة، صنع في الصين